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湿法蚀刻/显影设备

发布日期:2024-07-19   浏览次数:640

产品简介:

高均匀性蚀刻及显影;搭配特殊机构系统,实现超高均匀性控制;槽体流场控制技术;高精度自动配液/补液系统;药液浓度实时监控系统;高精度温控系统;高效药液回收系统;全自动--半自动--手动全系列客制化机种;模组化设计易于维护,降低维修各项成本;12” ,8” ,6” ,4” 各种尺寸芯片清洗。

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高均匀性蚀刻及显影;搭配特殊机构系统,实现超高均匀性控制;槽体流场控制技术;高精度自动配液/补液系统;药液浓度实时监控系统;高精度温控系统;高效药液回收系统;全自动--半自动--手动全系列客制化机种;模组化设计易于维护,降低维修各项成本;12” ,8” ,6” ,4” 各种尺寸芯片清洗。

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